產(chǎn)品詳情:
退火設(shè)備是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其 電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的。
可以加熱晶片以激活摻雜劑,將薄膜轉(zhuǎn)化成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)化成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,改變生長的薄膜的狀態(tài),修復(fù)注
入的損傷,移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。
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產(chǎn)品詳情:退火設(shè)備是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能
產(chǎn)品詳情:
退火設(shè)備是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其 電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的。
可以加熱晶片以激活摻雜劑,將薄膜轉(zhuǎn)化成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)化成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,改變生長的薄膜的狀態(tài),修復(fù)注
入的損傷,移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。
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