應(yīng)用范圍: | *半導(dǎo)體(Semiconductor) *微機電(MEMS) *被動組件(Passive Component) *觸控面板(Touch Panel) *顯示器(Display Panel) *發(fā)光二極管(LED) |
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規(guī)格: | *Exposure light source: 350W、500W、1KW、2KW *Substrate Size 2"~8"、8"~12" *Uniformity: ≦5% *Alignment Accuracy: +- 1um *Throughput:≧60 wph |
采用對位與光學(xué)系統(tǒng),提供研發(fā)單位和使用光刻工藝所需要的彈性設(shè)備。適用工業(yè)4.0大數(shù)據(jù)收集。
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