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THERMAL NIL 桌面式納米熱壓印機(jī)

　　NIR-MFD-S-SM-2 NILT CNI 實(shí)驗(yàn)用納米熱壓印機(jī)是專為實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)和開發(fā)的簡(jiǎn)單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設(shè)備，用戶可以通過(guò)CNI設(shè)備高效、低成本地實(shí)現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝，許多的研發(fā)機(jī)構(gòu)均購(gòu)買了CNI的設(shè)備和NILT CNI熱壓設(shè)備。

產(chǎn)品特點(diǎn)

　　 占地小、操作簡(jiǎn)便

　　 可實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的圖形復(fù)制

　　 可實(shí)現(xiàn)納米熱壓設(shè)備的一切功能，而無(wú)需昂貴的工藝設(shè)備

技術(shù)參數(shù)

　　THERMAL NIL 主要性能指標(biāo)：

　　 集成控溫卡盤，可對(duì)溫度進(jìn)行測(cè)量、控制

　　 可適用于100mm（4 英寸以下）所有尺寸和形狀的壓印模板

　　 可適用于Silicon, Quartz, Nickel and Polymer materials

　　 壓印程序可進(jìn)行編程

　　 適用所有熱壓印材料

　　 設(shè)備可用于復(fù)制壓印母板

　　 壓印溫度可達(dá)200 攝氏度

　　 壓力范圍：1‐10 bar

　　 壓印精度：40nm 或更好 (可完成工藝驗(yàn)收)

　　 將模板加熱和溫度測(cè)量集成與壓印載盤上

　　 載盤適用于易碎襯底

　　 快速升溫，快速降溫，擁有技術(shù)的卡盤設(shè)計(jì)，可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分鐘

　　 提供COC 有機(jī)聚合物中間層軟膜（的母板復(fù)制工藝），耗材及工藝培訓(xùn)

　　 提供壓印相關(guān)材料

　　 提供工藝培訓(xùn)和支持

產(chǎn)品應(yīng)用

　　 在硅片上制作納米級(jí)光柵

　　 壓印易碎的材料（例如III-V族材料）

　　 微結(jié)構(gòu)加工

　　 制作壓印

　　 保護(hù)母版的適用壽命

　　 熱壓高深寬比結(jié)構(gòu)圖形