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沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司

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GSL-PECVD-300化學(xué)氣相沉積

產(chǎn)品二維碼
參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 品牌:
  • 產(chǎn)品類別:其他
  • 所在地:
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  • 更新時(shí)間:2024-08-09 10:56:54
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沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司

其他

  • 經(jīng)營(yíng)模式:其他
  • 商鋪產(chǎn)品:1107條
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  • 最近登錄:2024-08-06
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

詳情介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:GSL-PECVD-300化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù),基本溫度低,沉積速率,在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂,適制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

產(chǎn)品型號(hào)

GSL-PECVD-300化學(xué)氣相沉積

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25±15,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC380V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注/氬氣(純度99.99%以上),需自備實(shí)驗(yàn)所需氣體氣瓶(自帶Ø10mm雙卡套接頭)及減壓閥

4、場(chǎng)地設(shè)備尺寸2200×2000mm×1500mm,承重1000kg以上

5、通風(fēng)裝置:需要

主要特點(diǎn)

1、所需成膜溫度低

2、沉積速率快,應(yīng)用廣泛

3、體積小,操作簡(jiǎn)便

4、采用射頻為增強(qiáng)源易于控制

5、清理安裝便捷。

6、一體化觸摸屏控制

技術(shù)參數(shù)

1、系統(tǒng)采用單室式結(jié)構(gòu),手動(dòng)前開門;
2、真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造(304),氬弧焊接,表面采用噴玻璃丸+電化學(xué)拋光鈍化處理配有可視觀察窗口,并帶擋板,真空有效尺寸為Φ300mm×300mm;
3、極限真空度:≤6.67x10-4Pa (經(jīng)烘烤除氣后,采用600L/S分子泵抽氣,前級(jí)采用4L/S);
系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 系統(tǒng)從大氣開始抽氣到5.0x10-3 Pa,40分鐘可達(dá)到; 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤5 Pa;
4采用樣品在下,噴淋頭在上的電容式耦合方式進(jìn)氣;
5、樣品加熱加熱溫度:500℃,溫控精度:±1°C,采用控溫表進(jìn)行控溫;
6噴淋頭尺寸:Φ90mm,噴淋頭與樣品之間電極間距40-100mm在線連續(xù)可調(diào)(可根據(jù)工藝調(diào)整),并帶有標(biāo)尺指數(shù)顯示;
7 沉積工作真空:0.133-133Pa(可根據(jù)工藝調(diào)整);
8射頻電源:頻率 13.56MHz,功率500W,全自動(dòng)匹配;
9、.氣體種類(用戶提供),使用質(zhì)量流量控制器控制進(jìn)氣。

10、系統(tǒng)設(shè)有尾氣處理系統(tǒng)(用戶自備)。

產(chǎn)品規(guī)格

整機(jī)尺寸:1200x1500x1500mm;

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

電源控制系統(tǒng)

1

2

真空機(jī)組

1

3

真空測(cè)量

1

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