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用于分散和濕磨的高效攪拌式珠磨機(jī).
ECM－Pilot ECM－Poly砂磨機(jī)－珠磨機(jī)應(yīng)用 
攪拌式珠磨機(jī)用于持續(xù)分散和濕磨由低到高粘度的泵送材料。WAB－ECM戴諾磨在循環(huán)式工藝下可獲得很高的產(chǎn)量，同樣，它在通道式工藝下表現(xiàn)也很成功。
WAB － ECM 戴諾磨可用于不同工業(yè)中的分散和研磨：
油漆和油墨 
顏料和染料 
填料和涂料 
農(nóng)藥  

 

ECM－Pilot ECM－Poly砂磨機(jī)－珠磨機(jī)原理 
在 ECM 戴諾磨中，研磨珠通過(guò)的戴諾加速器加速。的構(gòu)造使得內(nèi)部研磨珠的循環(huán)得到加強(qiáng)，這樣就保證了一個(gè)較窄的保壓范圍且結(jié)合了的能量密度。戴諾加速器使研磨珠循環(huán)得到的加強(qiáng)在密度和速度上都比材料流動(dòng)至研磨機(jī)出口方向上對(duì)研磨珠所產(chǎn)生的影響大得多。 
研磨珠的分離 
研磨珠通過(guò)抗磨損的篩網(wǎng)保留在研磨機(jī)中，特殊的戴諾加速器和在篩網(wǎng)附近的機(jī)器部件都設(shè)計(jì)用于減輕研磨珠對(duì)篩網(wǎng)系統(tǒng)的磨損?？稍诓挥貌痖_(kāi)研磨缸的條件下更換篩網(wǎng)筒?？墒褂酶鞣N材料制成的研磨珠  
材 料 
易損件可由不同的材料制成如不銹鋼、加硬鋼和陶瓷。特別選擇的陶瓷材料 (e.g. SiSiC) 具有一個(gè)優(yōu)化的散熱能力和的冷卻能力。  
軸密封 
容易更換的雙機(jī)密封，帶壓力清洗單元。清洗液壓力通過(guò)閥門來(lái)調(diào)節(jié)，冷卻壓力清洗罐由不銹鋼制成。  
維 護(hù) 
研磨缸移動(dòng)裝置和研磨珠接收器可在的工作高度幫助客戶迅速和容易的維護(hù)機(jī)器，縮短了停機(jī)時(shí)間。  
控制元件
對(duì)于機(jī)械系統(tǒng)控制，控制面板帶按鈕和信號(hào)燈或含數(shù)字指示器的頁(yè)碼鍵盤。  
安全裝置 
進(jìn)口處裝有接觸式壓力計(jì)，出口處裝有接觸式溫度計(jì)，鄰近感應(yīng)開(kāi)關(guān)防止在沒(méi)有安裝研磨缸或前蓋的情況下將機(jī)器開(kāi)動(dòng)。鄰近電容開(kāi)關(guān)用于監(jiān)察機(jī)械密封中的清洗液液面，接觸式壓力計(jì)用于監(jiān)察軸密封的壓力。 
 

WAB － ECM 的優(yōu)點(diǎn) 
－流量 
－產(chǎn)量 
－能量利用率 
－研磨缸較小 
－適合于循環(huán)式和通道式工藝 
－容易清洗 
－容易操作 
－更換篩網(wǎng)無(wú)須打開(kāi)研磨缸 
ECM 戴諾磨只能用于持續(xù)分散和研磨液相中的固體。在壓力、溫度和研磨作用的影響下，不能出現(xiàn)不可控制的反應(yīng)。材料在研磨機(jī)中處理后，必須保持可流動(dòng)性。 
產(chǎn)量取決于被處理的材料及所需的研磨質(zhì)量。所標(biāo)志的產(chǎn)量為一平均值，實(shí)際產(chǎn)量可能會(huì)稍低或稍高。戴諾磨具有不同的設(shè)計(jì)和型號(hào)。