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低溫等離子發(fā)生器可除去有機(jī)物、環(huán)氧樹(shù)脂、光刻膠、氧化物、微粒污染物等：
        CRF低溫等離子發(fā)生器處理后很有可能應(yīng)是材料本身的特性、處理后遭到二次污染、又發(fā)生化學(xué)反應(yīng)等原因，處理后表面能保留的時(shí)間不好確定。經(jīng)過(guò)CRF低溫等離子發(fā)生器處理達(dá)到較高表面后，馬上進(jìn)行下一道工藝，防止表面能衰減帶來(lái)的影響。
       CRF低溫等離子發(fā)生器表面改性是控制表面的有效方式，基材的能量和化學(xué)性質(zhì)不影響散裝材料。等離子體是電離氣體的狀態(tài)稱為“第四物質(zhì)狀態(tài)”，由反應(yīng)性顆粒組成例如電子，離子和自由基。等離子體和固體相互作用可以大致分為三個(gè)子類別：等離子體蝕刻或清潔，其中材料從表面去除；等離子體活化，其中表面物理或化學(xué)改性通過(guò)等離子體中存在的物質(zhì)和；等離子體涂覆，其中材料在表面上以薄膜的形式沉積。根據(jù)在等離子體產(chǎn)生的條件下，等離子體可以分為真空或大氣等離子體。低溫等離子發(fā)生器處理廣泛用于例如微電子學(xué)應(yīng)用程序，但在線過(guò)程需要大氣方法。
       去除的污染物可能是有機(jī)物、環(huán)氧樹(shù)脂、光刻膠、氧化物、顆粒污染物等。實(shí)際上，低溫等離子發(fā)生器通過(guò)對(duì)樣品進(jìn)行表面改性，同時(shí)去除表面有機(jī)物，使各種材料可以進(jìn)行粘接、涂布等工藝操作。廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子、電子、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微流體等領(lǐng)域。