在實(shí)際生產(chǎn)中，我們發(fā)現(xiàn)等離子清洗機(jī)一些重要的部件會(huì)隨著使用時(shí)間的推移產(chǎn)生不同程度的氧化、老化、腐蝕等問題，會(huì)是引起等離子清洗機(jī)達(dá)不到清洗效果的原因，例如反應(yīng)腔、電極、托板架、氣體的壓力等。下面，等離子清洗機(jī)廠家介紹了幾個(gè)關(guān)鍵部位保養(yǎng)前后的效果以及如何進(jìn)行保養(yǎng)。
一、真空腔體保養(yǎng)
等離子腔體清潔時(shí)產(chǎn)生的污物大部分都接近電子級(jí)別，會(huì)隨著真空泵排除。但也會(huì)有一些大顆粒污染物產(chǎn)生。這些大顆粒污物會(huì)附著在腔壁、電極和托板架上。腔壁上有一層薄薄的“灰”，腔底掉落更嚴(yán)重。
對(duì)于腔壁用不可掉落的毛刷清潔使顆粒粉塵異物在腔壁脫落，用吸塵機(jī)將污物吸出。用脫脂布沾酒精擦拭，其次腔體導(dǎo)入N2和O2，用等離子體清除腔體內(nèi)殘余物，工作10min。
二、電極與托板架的保養(yǎng)
托板架和電極長時(shí)間使用后會(huì)附著氧化層，同時(shí)采用等離子體處理烴基材料時(shí)，一段時(shí)間后在托板架、電極，RF導(dǎo)電桿上會(huì)積累一層薄的烴基殘留物，這些殘留物和氧化層是無法用酒精擦拭掉的。應(yīng)依據(jù)附著物的量對(duì)電極、托板架進(jìn)行翻新維護(hù)能保證清洗的穩(wěn)定。清洗材料要求：氫氧化鈉、硫酸、城市用水和蒸餾水。
注意：不要使用手磨機(jī)、砂紙或磨蝕性噴砂處理等機(jī)械方法清潔；氫氧化鈉溶液會(huì)與鋁發(fā)生劇烈的化學(xué)反應(yīng)，應(yīng)小心謹(jǐn)慎以確保僅在所需的時(shí)間內(nèi)清除沉積物；反應(yīng)中會(huì)生成具有潛在爆炸性的氫氣，因此工作區(qū)域應(yīng)保持良好的通風(fēng)。
三、真空泵的保養(yǎng)
查看真空泵油位和油的純度，觀察油位視窗，發(fā)現(xiàn)油位接近紅線刻度，加油到紅標(biāo)線上下之間位置。
等離子清洗機(jī)在使用過程中，腔體內(nèi)出現(xiàn)的一些殘留物和氧化層，在前期發(fā)展階段，該薄層并不影響設(shè)備的運(yùn)行或成品。但是經(jīng)過持續(xù)的運(yùn)轉(zhuǎn)后，發(fā)現(xiàn)了清洗效果不穩(wěn)定，能察覺到微小改變，所以在使用一段時(shí)間之后是需要將托板架與電極進(jìn)行清洗翻新。
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