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單室等離子增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)

產(chǎn)品二維碼
參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 產(chǎn)品型號:
  • 品牌:
  • 產(chǎn)品類別:其他
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 樣本:
  • 更新時間:2024-08-09 11:31:09
  • 瀏覽次數(shù):5

沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

其他

  • 經(jīng)營模式:其他
  • 商鋪產(chǎn)品:1107條
  • 所在地區(qū):
  • 注冊時間:2015-09-27
  • 最近登錄:2024-08-06
  • 聯(lián)系人:
產(chǎn)品簡介

詳情介紹

產(chǎn)品簡介單室等離子增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)是一種用等離子體激活反應(yīng)氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)膜的技術(shù)。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的基本原理是在高頻或直流電場作用下,源氣體電離形成等離子體,利用低溫等離子體作為能量源,通入適量的反應(yīng)氣體,利用等離子體放電,使反應(yīng)氣體激活并實現(xiàn)化學(xué)氣相沉積的技術(shù)。該系統(tǒng)為單室等離子增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)工藝研發(fā)設(shè)備,用于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

 

產(chǎn)品名稱

單室等離子增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)

安裝條件

1、環(huán)境溫度10℃~35℃

2、相對濕度不大于75%

3、供電電源220V、單、50±0.5 Hz

4、設(shè)備功率:小于4KW   

5、供水水壓0.2MPa~0.4MPa,水溫15℃~25℃,

6、設(shè)備周圍環(huán)境整潔,空氣清潔,不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬導(dǎo)電的塵?;驓怏w存在。

技術(shù)參數(shù)

1、系統(tǒng)采用單室筒式結(jié)構(gòu),手動前開門;
2、真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造(304),氬弧焊接,表面采用噴玻璃丸+電化學(xué)拋光鈍化處理配有可視觀察窗口,并帶擋板,真空室尺寸為Φ300mm×300mm;

3極限真空度:8.0x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后,采用600L/S分子泵抽氣,前級采用4L/S);系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 系統(tǒng)從大氣開始抽氣到8.0x10-4 Pa,40分鐘可達(dá)到; 停泵關(guān)機12小時后真空度:≤5 Pa;
4、采用樣品在下,噴淋頭在上的電容式耦合方式進氣;
5樣品加熱溫度:500℃,溫控精度:±1°C,采用溫控表進行控溫;
6、噴淋頭尺寸:Φ90mm,噴淋頭與樣品之間電極間距10-65mm在線連續(xù)可調(diào)(可根據(jù)工藝調(diào)整),并帶有標(biāo)尺指數(shù)顯示;
7.、沉積工作真空:13.3-133Pa(可根據(jù)工藝調(diào)整);
8、射頻電源:頻率 13.56MHz,功率300W全自動匹配;
9、氣體種類(用戶自備),標(biāo)準(zhǔn)配置為2路100sccm質(zhì)量控制器,用戶可根據(jù)工藝更改氣路配置;

10、氣體過濾設(shè)備用戶自備;

11、系統(tǒng)尾氣處理系統(tǒng)(用戶自備)。

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