產(chǎn)品簡(jiǎn)介： 該系統(tǒng)為球形脈沖激光淀積系統(tǒng)（PLD）工藝研發(fā)設(shè)備。脈沖激光沉積 （Pulsed laser deposition, PLD），就是將激光聚焦于靶材上一個(gè)較小的面積，利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離，使其能夠脫離靶材而向基底運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而在基底上沉積，從而形成薄膜的一種方式。 在眾多的薄膜制備方法中，脈沖激光沉積技術(shù)的應(yīng)用較為廣泛，可用來(lái)制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜，甚至還用來(lái)制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等。
| 產(chǎn)品名稱 | 球形脈沖激光淀積系統(tǒng)（PLD） |
| 安裝條件 | 1、環(huán)境溫度：10℃～35℃ 2、相對(duì)濕度：不大于75% 3、供 水：水壓0.2MPa～0.4MPa,水溫15℃～25℃ 4、設(shè)備周圍環(huán)境整潔，空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。 |
| 技術(shù)參數(shù) | 1、系統(tǒng)采用真空室為球形結(jié)構(gòu)，手動(dòng)前開門 |
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