| 設(shè)備概要： | 適用尺寸：2"-12" Wafer基材。 |
|---|---|
| 基本規(guī)格： | |
| 外觀材質(zhì)： | PP板組合焊接而成，可以耐腐蝕。 |
| 操作盆罩： | SUS制，圓盆型設(shè)計。 |
| 盆罩掀蓋： | 分離式透明PVC上蓋。 |
| 吸盤規(guī)格： | 一組鋁制吸盤精密研模陽極保護。 |
| 操作、入料方式： | 手動直接輸入、手動給料。 |
| 液體種類： | 光阻劑、溶劑。 |
| 馬達： | AC Servo Motor（轉(zhuǎn)速：10-6000 RPM） |
| 含真空泵浦（附PP防塵外罩） | |
| 真空滲液保護： | 有，間接式防護設(shè)計。 |
| 真空簡檢知： | 有（可數(shù)位設(shè)計真空值 Kpa 下限保護）。 |
| 保護制御： | 有一本裝置的全部狀態(tài)，異常檢出。 |
| 電控系統(tǒng)： | |
| 軟體： | PLC。 |
| 操控方式： | 彩色觸控人機系統(tǒng)，主軸轉(zhuǎn)速曲線圖。 |
| 配方模組與段數(shù)設(shè)定： | 100組配方，每配方30段段數(shù)。 |
專為實驗室及研發(fā)人員而開發(fā)的晶圓半自動上光阻機，可處理2"~ 12"各式各樣的基材，且由于體積尺寸小，因此僅需要使用最小的空間。
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